La Chine entreprend de développer un « canon » lithographique EUV. Nous sommes à travers cet exemple dans une illustration de ce qui a été bien souvent annoncé: les Etats-Unis ne sont plus en situation de bloquer la Chine. Les blocus l’obligent à inventer de nouvelles voies scientifiques, à l’image de ce qui est fait au plan politique. On entrevoit les possible parfois de manière anecdotique avec le fait que Huwaï Technologies a commencé le 29 août la vente de son smartphone phare Mate60 Pro, qui utilisait une puce de 7 nanomètres produite avec la technologie de traitement N + 2 de Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC) et la lithographie ultraviolette profonde ASML (DUV). Il n’est plus question d’imiter, les voies sont originales. Noter que la Chine avance avec prudence, en assurant ses prises mais en se donnant des moyens sans commune mesure avec ce qui a été conçu jusqu’ici et en créant des collaborations originales. (noteettraduction de danielle Bleitrach histoireetsociete)
Le plan à long terme consiste à construire un accélérateur de micrograppes à l’état stable pour créer une source de lumière ultraviolette extrêmePar JEFF PAO19 SEPTEMBRE 2023
La Chine explore l’utilisation d’une nouvelle source de lumière ultraviolette extrême (EUV) pour fabriquer sa propre installation de lithographie, mais les experts en technologie ont déclaré qu’un objectif aussi ambitieux pourrait prendre de nombreuses années à atteindre.
Au cours des derniers jours, des articles et des vidéos sont devenus viraux sur Internet en Chine, affirmant que l’Université Tsinghua avait fait des percées dans la technologie de microregroupement à l’état stationnaire (SSMB), qui peut créer une source lumineuse EUV avec une puissance plusieurs fois supérieure à celle de la lithographie EUV d’ASML.AsiaTimesChina sets out to develop EUV lithographic ‘cannon’
Ils affirment que le lancement futur d’un accélérateur SSMB, surnommé « canon lithographique », aidera la Chine à contourner les contrôles à l’exportation des États-Unis et des Pays-Bas.
Celles-ci sont intervenues après que Huawei Technologies a commencé le 29 août la vente de son smartphone phare Mate60 Pro, qui utilisait une puce de 7 nanomètres produite avec la technologie de traitement N + 2 de Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC) et la lithographie ultraviolette profonde ASML (DUV).
« Nous comprenons qu’il est difficile d’avoir plus de percées dans le traitement des puces si nous suivons la voie technologique actuelle »,a déclaré un écrivain basé à Chongqing dans un article publié par la Huxiao Business Review le 16 septembre. « Il sera plus facile de marcher sur un nouveau chemin. »
Il dit que la suggestion de Tsinghua d’utiliser la technologie SSMB en lithographie peut aider la Chine à briser le blocage technologique de l’ASML.
Il ajoute que ce que Tsinghua propose n’est pas une machine à lithographie, mais une énorme usine qui implique beaucoup de terres et de travailleurs – des ressources dont la Chine ne manque pas.
Bu Xiaotong, un chroniqueur basé dans le Henan, a déclaré dans un article publié dimanche que la Chine pourrait ne pas être en mesure de fabriquer une machine de lithographie, mais qu’elle pourrait fabriquer une usine de lithographie.
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